| 測量膜厚范圍 | ? 15nm-50um |
| 光譜波長 | ? 400 nm - 1100 nm |
| 主要測量透明或半透明薄膜厚度 | ? 氧化物 ? 氮化物 ? 光刻膠 ? 半導體（硅，單晶硅，多晶硅等） ? 半導體化合物（ALGaAs,InGaAs,CdTe,CIGS等） ? 硬涂層（碳化硅，類金剛石炭） ? 聚合物涂層(聚對二甲苯，聚甲基丙烯酸甲酯，聚酰胺) ? 金屬膜（點擊圖片可查看詳細資料） |
| 特點 | ? 測量和數據分析同時進行，可測量單層膜，多層膜，無基底和非均勻膜 ? 包含了500多種材料的光學常數，新材料參數也可很容易地添加，支持多重算法：Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA等 ? 體積較小，方便擺放和操作 ? 可測量薄膜厚度，材料光學常數和表面粗糙度 ? 使用電腦操作，界面中點擊，即可進行測量和分析 |
| 精度 | ? 0.01nm或0.01% |
| 準確度 | ? 0.2%或1nm |
| 穩定性 | ? 0.02nm或0.02% |
| 光斑尺寸 | ? 標準3mm,可以小至3um |
| 要求樣品大小 | ? 大于1mm |
| 分光儀/檢測器 | ? 400 - 1100 nm 波長范圍 ? 光譜分辨率: < 1 nm ? 電源 100 -250 VAC, 50/60 Hz 20W |
| 光源 | ? 5W的鎢鹵素燈 ? 色溫：2800K ? 使用壽命:1000小時 |
| 反射探針 | ? 光學纖維探針，400um纖維芯 ? 配有分光儀和光源支架 |
| 栽樣臺 | ? 測量時用于放置測量的樣品 |
| 通訊接口 | ? USB接口，方便與電腦對接 |
| TFCompanion軟件 | ? 強大的數據庫包含500多種材料的光學常數（n：折射率，K：消失系數） ? 誤差分析和模擬系統，保證在不同環境下對樣品測量的準確性 ? 可分析簡單和復雜的膜系 |
| 設備尺寸 | ? 200x250x100mm |
| 重量 | ? 4.5kg |
1、通過橢偏儀、SEM、反射光譜測厚儀（進口、國產）三者檢測結果的對比，薄膜厚度偏差＜ 2 nm。
2、沈陽TFMS-IV膜厚儀與美國TFMS-LD薄膜測厚儀測量膜厚的平均值相差 2 nm；
3、反射光譜側厚相比于SEM測厚，操作更加便捷，對操作人員要求并不高。
應用技術提示 | ·廠家配備的校準基片，請勿丟失。 ·校準基片在使用時，要注意操作規范，請勿劃傷或污染基片。 ·使用結束后，需要用無塵布將設備鏡頭和樣品臺面蓋住。 ·測試過程需要在較為潔凈的環境下進行。 ·待測基片在檢測前要注意保管和清洗，防止出現檢測樣品偏差過大。 ·檢測金屬需要注意薄膜厚度，只有低于40或50nm厚度的金屬膜才可以被測量。較厚的金屬膜是不透明的，因此不能用TFMS-LD測量，實際測量厚度取決于金屬類型。假定金屬膜表面是光滑的，下表顯示了幾種金屬的可測量厚度。
·表面粗糙度會引起散射使測量厚度減小。 |
警示 | ·不要直視光源或探頭，以免傷害眼睛。 ·一定要確保光纖探頭端口連接。 ·光纖不可過度彎折。 ·鏡頭不可使用粗糙物擦拭，防止造成鏡頭劃傷，影響檢測。 |
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皖公網安備 34012302000974號
